產(chǎn)品介紹

紋影儀可用來觀察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動的分布、傳播過程以及擾動強度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內(nèi)彈道及某些化學反應等學科的流場密度變化科學研究。泰普勒紋影儀是傳統(tǒng)、使用*的一種。

技術參數(shù)：

其中主反射鏡光學材料：K9光學玻璃，應力≤2，加工面型精度＜1/10λ；反射面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護膜。小反射鏡表面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護膜，反射系數(shù)≥90%，面型精度＜1/10波長。

該系統(tǒng)主要的光機部件主要可以分為：光源狹縫系統(tǒng)、主球面反射鏡裝調(diào)機構、刀口成像系統(tǒng)三個部分。其中，光源狹縫系統(tǒng)和其中一塊主球面反射鏡組成準直系統(tǒng)，刀口成像系統(tǒng)與其中一塊主球面反射鏡組成紋影觀視系統(tǒng)，分別布局于兩個平臺上。

紋影法，又稱紋影技術，包括黑、白紋影法，彩色紋影法和干涉紋影法，是用紋影系統(tǒng)進行流場顯示和測量的常用的光學方法。紋影法首先由Toepler于1864年提出，并應用在光學玻璃折射率的檢測中。

1952年 ，Holde和Norht在紋影系統(tǒng)上使用白光的分光棱鏡 ，實現(xiàn)了彩色紋影成象，擴大了紋影技術的應用范圍；1962年，Bland和pelick用紋影法研究了水的壓力和溫度效應后指出，紋影法實用于水洞 的流場顯示；1974年 ，Merzkirch對可壓縮流場中的紋影技術進行了分類，把涉及到在紋影系統(tǒng)上進行的干涉紋影法的研究 ，包括光柵干涉、棱鏡干涉以及Moire條紋干涉等 ，均歸類于紋影技術,并得到國內(nèi)同行的認可。